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来源:乐鱼体育在线    发布时间:2026-07-28 13:06:28

简要描述:

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  现在的大规模芯片制作工艺,均是光刻工艺。 而光刻工艺中,最重要的是设备是光刻机,而有必要的材料则是光刻胶,光刻机、光刻胶、光刻工艺是一一对应的。 光刻机分为G线I线,KrF,EUV等,光刻胶也是这样区分

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